スパッタリングターゲット
スパッタとは

スパッタリング法とは真空状态の装置内でスパッタリングターゲットにアルゴンイオンを衝突させ、放出したターゲット原子/分子をシリコンウェハーやガラス等の基盘上に付着させ、薄膜を形成する技术です。スパッタリングターゲットとは、このスパッタリングを行う际に、イオンがぶつかる的=ターゲットとなる事からつけられた名称です。
スパッタリング法とは真空状态の装置内でスパッタリングターゲットにアルゴンイオンを衝突させ、放出したターゲット原子/分子をシリコンウェハーやガラス等の基盘上に付着させ、薄膜を形成する技术です。スパッタリングターゲットとは、このスパッタリングを行う际に、イオンがぶつかる的=ターゲットとなる事からつけられた名称です。